在全球半導體產業競爭日益激烈的背景下，中國企業正面臨重大挑戰。荷蘭光刻設備巨頭 ASML (ASML.US) 執行長 Christophe Fouquet 受訪時表示，儘管中國在半導體領域取得了一定進展，但與行業領軍企業如英特爾、台積電和三星相比，中國企業在晶片製造能力上仍落後 10 至 15 年。
Fouquet 指出，中國晶圓廠中芯國際雖然擁有先進的深紫外線（DUV）光刻設備，但在成本效益方面仍無法與台積電的製程技術相抗衡。這主要是因為中國企業無法獲得更先進的極紫外線（EUV）微影工具。由於瓦森納安排的限制，ASML 一直未能將 EUV 設備出口至中國，儘管中芯國際曾經訂購了一台 EUV 機器。
ASML 近期推出了先進的 DUV 微影機，如 Twinscan NXT:2000i，該設備能夠生產 5 奈米和 7 奈米等級的晶片。中芯國際多年來一直使用其第一代和第二代 7 奈米級製程技術為華為生產晶片，這在一定程度上幫助華為抵禦了美國政府的製裁。
面對 EUV 無法進入中國市場的現實，華為及其合作夥伴已開始探索極紫外光刻技術，期望建立自己的光刻晶片製造工具和生態系統。然而，這一過程可能需要 10 至 15 年的時間。相較之下，ASML 及其合作夥伴花了超過 20 年的時間才建構起 EUV 生態系統。
儘管中國半導體產業預計在未來開發出低數值孔徑（NA）EUV 微影機，但屆時西方晶片產業可能已經擁有更高 NA 的 EUV 光刻甚至 Hyper-NA EUV 設備。目前，中國企業面臨的主要擔憂是可能在未來幾年內複製 ASML 的主流 DUV 機器，如 Twinscan NXT:2000i。
美國政府正向 ASML 施壓，要求停止在中國維護和維修先進的 DUV 系統，以符合對中國半導體產業的現有製裁。然而，荷蘭政府尚未同意這項要求。 ASML 的目標是保留對其在華機器的控制權，以防止敏感資訊外洩的風險。
中國企業作為 ASML 的主要客戶之一，已向中芯國際、華虹和 YMTC 出售了數十億美元的 DUV 光刻機。未來，如果中國光刻設備製造商能夠建立自己的 DUV 光刻系統，或複製 ASML 開發的系統，可能會減少對 ASML 的採購，並開始在中國以外銷售這些工具，與 ASML 形成競爭。
儘管短期內中國企業不太可能製造出類似 Twinscan NXT:2000i 的機器，但複製一些不那麼先進的機器可能會相對容易。這將對全球半導體產業的競爭格局產生深遠影響。
(美股為即時串流報價； OTC市場股票除外，資料延遲最少15分鐘。)新聞來源 (不包括新聞圖片): 鉅亨網