3月19日|比利時半導體研究機構IMEC表示,已取得一台阿斯麥High NA極紫外光(EUV)微影設備,價值約4億美元。這款設備全球僅有不到十台,被視為下一代芯片製造的重要關鍵設備,將協助產業推進更先進製程技術的研發與測試。IMEC指出,這台High NA EUV設備將成為其NanoIC試產線的核心設備。該試產線總投資規模達25億歐元,其中約14億歐元來自公共資金,包括歐盟《芯片法》提供的支持。IMEC長期採用共享研發模式,讓半導體企業與研究機構在類似晶圓廠的環境中,共同測試並開發最新制造技術。
新聞來源 (不包括新聞圖片): 格隆匯